日前，浙江省政府公布了2009年度浙江省科学技术奖获奖名单，横店集团东磁股份有限公司和浙江大学材料科学与工程学院等单位合作完成的“高抗蚀性高稳定性钕铁硼关键制备技术的研究、开发和应用”项目获得一等奖。
　　钕铁硼是应用最广泛的稀土永磁材料，已成为现代社会和高新技术的重要基础材料。该项目开展高抗蚀性高稳定性钕铁硼材料关键制备技术的研究、开发和应用，并且取得了重要突破和进展，主要包括：利用双合金法对主相和晶界相分别进行成分设计和制粉的特点，在国内外首创钕铁硼晶界组织重构新技术；基于晶界重构制备的高抗蚀性磁体，耐盐雾腐蚀时间提高40倍，可免于表面防腐处理；通过晶界相纳米改性，抑制主相晶粒烧结长大、调控晶界相分布和理化特性，不仅提高了磁性能，制备的磁体工作温度达250℃以上；在提高镀层与基体结合强度技术和提高镀层耐蚀性技术方面成功进行了一系列创新，建立了钕铁硼超声化学镀防腐新技术；同时对可能发展下一代稀土永磁的纳米复相材料进行了深入研究。
　　该项目通过复合添加Dy、Tb、Co、Cu、Nb、Al、Ga等多种微量元素，提高磁体Tc、HA，同时获得较优的显微组织；通过优化熔炼、制粉、成型、烧结以及时效等工艺，采用甩片（SC工艺）、氢碎（HD工艺）等先进技术，最终获得具有优异综合磁性能的高抗蚀性高稳定性的烧结NdFeB磁体。该项目已获授权专利15项，该磁体现已大量应用于国防军工和电子信息、能源交通等民用关键领域，为企业直接创造经济效益2000多万元。